Mini EBL电子束光刻机
Mini EBL电子束光刻机
泽攸科技 ZEL Mini 电子束光刻机，搭载LaB₆ 电子枪与一体化图形发生模块，实现微纳样品的高精度直写光刻。设备集成压电纳米样品台与自动化曝光软件，支持小批量、快速打样，从版图导入、邻近效应校正到场拼接套刻一气呵成，适配教学实验、新材料、微纳光子、量子器件等前沿研究，为微纳加工原型提供轻量化的国产自研解决方案。
产品描述
电子束直写光刻
ZEL Mini 电子束光刻机
桌面级微纳加工的轻量化之选
高精度直写 | 小批量快速打样
泽攸科技 ZEL Mini 电子束光刻机，搭载LaB₆ 电子枪与一体化图形发生模块，实现微纳样品的高精度直写光刻。设备集成压电纳米样品台与自动化曝光软件，支持小批量、快速打样，从版图导入、邻近效应校正到场拼接套刻一气呵成，适配教学实验、新材料、微纳光子、量子器件等前沿研究，为微纳加工原型提供轻量化的国产自研解决方案。
主要技术参数
轻量化机身，完整保留电子束光刻的核心能力
产品型号
ZEL Mini
电子枪
LaB₆ 电子枪
图形与校正
支持 GDSII / DXF / BMP 版图格式，集成 2D / 3D 邻近效应校正与灰度曝光
应用案例
从超表面到量子器件，微纳结构直写一步到位
 振荡器图形阵列 |  八边螺旋靶心结构 |
 二维材料电极图形 |  超表面结构阵列 |
 微纳透镜结构 |  光子晶体结构 |
部分客户
众多高校、科研机构与企业的信赖之选
开启微纳光刻之旅
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