EBL电子束光刻机
EBL电子束光刻机
泽攸科技 ZEL304G 电子束光刻机，搭载高性能场发射电子枪与高速图形发生系统，可实现高精度、高分辨的微纳结构光刻加工。设备配备高精度激光干涉样品台，支持大行程精准拼接与套刻，兼容多种图形格式与多图层自动曝光，可满足复杂微纳制备需求。广泛应用于前沿物理、半导体、微电子、光子学、量子研究与新材料开发等领域，为科研创新与高端微纳加工提供稳定可靠的国产自研解决方案。
产品描述
电子束直写光刻
ZEL304G 电子束光刻机
微纳结构加工的高精度之选
精准可控 | 高效稳定
泽攸科技 ZEL304G 电子束光刻机，搭载高性能场发射电子枪与高速图形发生系统，可实现高精度、高分辨的微纳结构光刻加工。设备配备高精度激光干涉样品台，支持大行程精准拼接与套刻，兼容多种图形格式与多图层自动曝光，可满足复杂微纳制备需求。广泛应用于前沿物理、半导体、微电子、光子学、量子研究与新材料开发等领域，为科研创新与高端微纳加工提供稳定可靠的国产自研解决方案。
主要技术参数
全系适配微纳加工需求，选你所需的高性能电子束光刻机
产品型号
ZEL304G
电子枪
肖特基场发射电子枪
最小单次曝光线宽
超高分辨率纳米级图形制备
扫描方式
顺序扫描（Z型）、循环扫描（S型）、螺旋型扫描等多种矢量扫描模式
曝光模式
支持场校准、场拼接，支持套刻，支持多图层自动曝光
外接通道支持
支持电子束扫描、工件台移动、束闸通断、二次电子检测
应用案例
卓越的光刻技术满足您的各种要求
均匀性测试
场拼接（游标卡尺测量）和最小线宽测试
HSQ胶
PMMA胶
厚胶测试
长光栅无缝拼接
电子束邻近效应校正功能 · 剂量校正效果
DMD紫外光与电子束联合光刻【使用的机型为 ZML10A 和 ZEL304G】
部分客户
众多高校、科研机构与企业的信赖之选
开启微纳光刻之旅
泽攸科技自主研发，提供全套微纳分析解决方案
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