EBL电子束光刻机
EBL电子束光刻机
泽攸科技 ZEL304G 电子束光刻机，搭载高性能场发射电子枪与高速图形发生系统，可实现高精度、高分辨的微纳结构光刻加工。设备配备高精度激光干涉样品台，支持大行程精准拼接与套刻，兼容多种图形格式与多图层自动曝光，可满足复杂微纳制备需求。广泛应用于前沿物理、半导体、微电子、光子学、量子研究与新材料开发等领域，为科研创新与高端微纳加工提供稳定可靠的国产自研解决方案。
产品描述
ZEL304G电子束光刻机
电子束直写光刻
微纳结构加工的高精度之选
精准可控 | 高效稳定
泽攸科技 ZEL304G 电子束光刻机，搭载高性能场发射电子枪与高速图形发生系统，可实现高精度、高分辨的微纳结构光刻加工。设备配备高精度激光干涉样品台，支持大行程精准拼接与套刻，兼容多种图形格式与多图层自动曝光，可满足复杂微纳制备需求。广泛应用于前沿物理、半导体、微电子、光子学、量子研究与新材料开发等领域，为科研创新与高端微纳加工提供稳定可靠的国产自研解决方案。
主要技术参数
全系适配微纳加工需求，选你所需的高性能电子束光刻机
产品型号 | ZEL304G |
电子枪 | 肖特基场发射电子枪 |
最小单次曝光线宽 | < 10nm |
扫描方式 | 顺序扫描（Z型）、循环扫描（S型）、螺旋型扫描等多种矢量扫描模式 |
曝光模式 | 支持场校准、场拼接，支持套刻，支持多图层自动曝光 |
外接通道支持 | 支持电子束扫描、工件台移动、束闸通断、二次电子检测 |
应用案例
卓越的光刻技术满足您的各种要求
▲均匀性测试
▲场拼接（游标卡尺测量）和最小线宽测试
▲HSQ胶
▲PMMA胶
▲厚胶测试
▲长光栅无缝拼接
▲电子束邻近效应校正功能 · 剂量校正效果
▲ DMD紫外光与电子束联合光刻【使用的机型为ZML10A 和 ZEL304G】
开启微纳光刻之旅
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