DMD无掩膜光刻机
DMD无掩膜光刻机
泽攸科技 ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机，采用先进数字微镜直写技术，无需传统掩膜版即可灵活完成任意微纳图形的精准曝光，加工精度出色、成像稳定。设备采用紧凑设计，搭配智能自动对焦与直观操作系统，上手简单、使用高效，能大幅缩短研发周期、降低制版成本，广泛适配微流控、MEMS、功能薄膜、二维材料器件等场景，是实验室与小批量试制中兼顾高精度、高灵活度与高性价比的理想微纳加工设备。
产品描述
DMD 无掩膜光刻
ZML系列无掩膜光刻机
机型多样化
高效、灵活、高分辨率和高套刻精度
特征尺寸0.5μm | 高精度步进光刻
泽攸科技 ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机，采用先进数字微镜直写技术，无需传统掩膜版即可灵活完成任意微纳图形的精准曝光，加工精度出色、成像稳定。设备采用紧凑设计，搭配智能自动对焦与直观操作系统，上手简单、使用高效，能大幅缩短研发周期、降低制版成本，广泛适配微流控、MEMS、功能薄膜、二维材料器件等场景，是实验室与小批量试制中兼顾高精度、高灵活度与高性价比的理想微纳加工设备。
主要技术参数
全系覆盖，选择你心仪的无掩膜光刻机
| 产品型号 | ZML10A | ZML100A | ZML200A |
| 最小特征尺寸 | 亚微米级图形制备 | 亚微米级图形制备 | 高精度亚微米级图形制备 |
| 套刻精度 | 满足基础微纳加工需求 | 满足精密微纳加工需求 | 满足精密微纳加工需求 |
| 对焦方式 | 图像自动对焦 | 激光主动对焦 | 激光主动对焦 |
| 旋转台 | 手动转台 | 电动转台 | 电动转台 |
| 数据格式 | DXF、GDS、BMP | DXF、GDS、BMP | DXF、GDS、BMP |
应用案例
卓越的光刻技术满足您的各种要求
二维材料光刻电极（左）、光电探测器（右）
20mm×20mm半导体器件，四层套刻，最小线宽6μm
微流控芯片（左）、微流控阳模（右）
DMD紫外光刻实现套刻功能
碲纳米网格刻蚀后套刻电极
灰度光刻菲涅尔透镜【3D灰度光刻实现菲涅尔透镜，从扫描电镜的截面图中可以看出台阶连续变化】
DMD紫外光与电子束联合光刻【使用的机型为 ZML10A 和 ZEL304G】
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