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无掩膜光刻机

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无掩模光刻机


泽攸科技无掩模光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。

泽攸科技无掩模光刻机:引领微纳制造新纪元

泽攸科技无掩模光刻机:引领微纳制造新纪元


在当今科技迅猛发展的时代,微纳制造技术正变得越来越重要。泽攸科技作为这一领域的先行者,推出了其创新的无掩模光刻机,这一设备在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等多个高科技领域展现出了其独特的价值和广泛的应用前景。

一文带你了解顶尖二维材料研究者们使用的科学仪器:覆盖生长、器件制作、转移及各类表征

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二维材料以其独特的物理和化学性质,正在成为现代科学研究的前沿领域。这些材料在电子、能源、生物医学等领域展现出巨大的应用潜力。本文将带您了解泽攸科技在二维材料的生长、器件制作、转移、表征的全过程解决方案。