无掩模光刻机

纳米压电位移台拼接技术

泽攸科技无掩模光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。

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产品描述

泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。


技术特点

▲ 纳米压电位移台拼接技术

▲ 红光引导曝光,所见即所得

▲ OPC修正算法优化图形质量

▲ CCD相机逐场自动聚焦

▲ 灰度匀光技术


光路远离结构图


主要指标


应用案例

泽攸科技无掩膜光刻机在MEMS压力传感器制造中的应用

泽攸科技无掩膜光刻机在PtTe2/WS2/金字塔状Si异质结构制备中的应用

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