在扫描电镜成像中怎样减少或校正样品表面的充电效应


发布时间:

2023-11-13

在扫描电镜(SEM)成像中,样品表面的充电效应可能导致图像的失真和噪音

在扫描电镜(SEM)成像中,样品表面的充电效应可能导致图像的失真和噪音。以下是一些减少或校正样品表面充电效应的常见方法:

导电涂层: 在样品表面涂覆导电性良好的薄层是常见的减少充电效应的方法。常见的导电涂层材料包括金属(如金或铂)或导电碳。这种涂层有助于在样品表面形成导电路径,减少表面电荷的积累。

金属导电胶: 使用金属导电胶连接样品和支撑基底,以确保电荷可以流动。这种方法适用于一些不适合涂覆导电薄层的样品。

样品处理: 有时,通过在真空中或惰性气氛中处理样品,可以减少样品表面的氧化和电荷积累。这种方法要求使用者在实验室环境中谨慎操作,以避免样品受到污染。

低电子能量: 使用低电子能量进行成像可以减少电子束与样品之间的相互作用,从而减少表面充电效应的影响。然而,这可能会降低图像的分辨率。

场发射电镜: 堆积电荷问题在场发射电镜中较少,因为它使用的是场发射电子而不是落在样品表面的电子束。

电子束抑制器: 一些先进的扫描电镜设备配备了电子束抑制器,可以通过向样品表面施加反电场来抑制电子束的影响,减轻充电效应。

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